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某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000, 真空腔体搭配的是伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 2300.
KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
射频离子源型号 | RFICP380 |
Discharge 阳极 | 射频 RFICP |
离子束流 | >1500 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 30 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 15-50 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 39 cm |
直径 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
离子源型号 | eH3000LO | eH3000MO | |
Cathode/Neutralizer | HC | ||
电压 | 50-250V | 50-300V | 50-250V |
电流 | 20A | 10A | 15A |
散射角度 | >45 | ||
可充气体 | Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others | ||
气体流量 | 5-100sccm | ||
高度 | 6.0“ | ||
直径 | 9.7“ | ||
水冷 | 可选 | ||
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
涡轮分子泵 HiPace 2300 技术参数：
型号 | 接口 DN | 抽速 l/s | 压缩比 | 最高启动压强hPa | 极限压力 | 全转速气体流量hPa l/s | 启动时间 | 重量 | |||
进气口 | 排气口 | 氮气N2 | 氦气He |
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