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Atonarp 适用于半导体过程控制在线质谱仪 Aston?

收藏 2022-03-10
  • 上海市
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  •  Ato<em></em>narp 适用于半导体过程控制在线质谱仪 Aston?

    Atonarp 适用于半导体过程控制在线质谱仪 Aston?
    上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston?, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中  ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量!

    Aston? 特性
    实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
    半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
    采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
    可与大批量生产工具完全集成
    Aston? 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.

    Atonarp  Aston? 技术参数

    类型

    Impact-300

    Impact-300DP

    Plasma-200

    Plasma-200DP

    Plasma-300

    Plasma-300DP

    型号

    AST3007

    AST3006

    AST3005

    AST3004

    AST3003

    AST3002

    质量分离

    四级杆

    真空系统

    分子泵

    分子泵
    隔膜泵

    分子泵

    分子泵
    隔膜泵

    分子泵

    分子泵
    隔膜泵

    检测器

    FC /SEM

    质量范围

    2-285

    2-220

    2-285

    分辨率

    0.8±0.2

    检测限

    0.1 PPM

    工作温度

    15-35“℃

    功率

    350 W

    重量

    15 kg

    尺寸

    299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

    400 x 240 x 325 LxWxH(mm)


    Atonarp  Aston? 应用: 半导体工艺过程控制和优化的重大发展, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率
    Aston? 是一款全新设计坚固耐用的紧凑型在线质谱仪, 适用于半导体制造和工业过程控制应用中气体监测和控制, 高定量精度和实时性与生产稳健性和可靠性相结合, 例如半导体 dry pump 尾气侦测分析, 实现在线监控,诊断.
    CVD / ALD: 氧化物-氮化物过渡及成分分析
    Etch/ALE End Point :<0.3%
    Chamber Matching:识别跟踪分子
    Aston? 半导体在线质谱仪应用

    若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

    上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
    T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
    M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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